深潮 TechFlow 消息,7 月 27 日,據 The Information 援引知情人士消息,上海一家國資背景企業已開始量產自主研發的 DUV(深紫外)光刻機設備,並計劃於 2026 年生產約 5 臺、2027 年擴大至約 20 臺。消息稱,該批設備擬交付中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等國內芯片製造商,其中長鑫存儲或成為首批客戶之一。
此舉被視為中國半導體制造設備國產化替代取得階段性進展,但整體產能與阿斯麥仍存在明顯差距。
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深潮 TechFlow 消息,7 月 27 日,據 The Information 援引知情人士消息,上海一家國資背景企業已開始量產自主研發的 DUV(深紫外)光刻機設備,並計劃於 2026 年生產約 5 臺、2027 年擴大至約 20 臺。消息稱,該批設備擬交付中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等國內芯片製造商,其中長鑫存儲或成為首批客戶之一。
此舉被視為中國半導體制造設備國產化替代取得階段性進展,但整體產能與阿斯麥仍存在明顯差距。