Маск нацелился на источник света EUV: технология FEL пользуется предпочтением, стоимость чипов может претерпеть изменения

По сообщениям TechFlow, 10 августа, после производства автомобилей, ракет и гуманоидных роботов, Маск обращает свой взгляд на ключевой этап производства чипов: источник света EUV. По сравнению с ныне зрелой коммерческой технологией LPP, Маск выразил явное предпочтение свободному электронному лазеру (FEL). Свободный электронный лазер (FEL) теоретически может значительно снизить затраты на производство передовых чипов, но в настоящее время все еще находится на ранней стадии исследований и разработок. (Цайляньшэ)