マスク氏、EUV 光源を狙う：FEL 技術が有望視 チップコスト変革の可能性

TechFlow ニュース、8 月 10 日、自動車製造、ロケット、人型ロボットに続き、イーロン・マスクはチップ製造の核心工程である EUV 光源に注目している。現在成熟して商用化されている LPP 技術と比較し、イーロン・マスクは自由電子レーザー（FEL）に対して明確な関心を示している。自由電子レーザー（FEL）は理論上、先進チップの生産コストを大幅に削減できる可能性があるが、現時点ではまだ初期研究開発段階にある。（財連社）