TechFlow 報道、7 月 27 日、The Information が事情に詳しい関係者から入手した情報によると、上海の国有資本背景を持つ企業は独自開発した DUV(深紫外)露光装置の量産を開始し、2026 年に約 5 台を生産し、2027 年には約 20 台に拡大する計画である。消息筋によると、該装置は中芯国際、華虹半導体及び長鑫儲存などの国内チップメーカーに納入される予定であり、中でも長鑫儲存が最初の顧客の一つとなる可能性がある。
この動きは中国半導体製造装置の国産化代替が段階的な進展を遂げたものと見られているが、全体の生産能力は ASML と比較して依然として明確な差がある。
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